(812) 309-78-59
(495) 223-46-76
ASTM F416-94
Test Method for Detection of Oxidation Induced Defects in Polished Silicon Wafers (Withdrawn 1998)
11 стр.
Заменен
Печатное изданиеЭлектронный (pdf)
107.64 $ (включая НДС 20%)
Разработчик:
Зарубежные/ASTM
ICS:
29.045 Semiconducting materials / Полупроводниковые материалы
Описание