(812) 309-78-59
(495) 223-46-76
BS ISO 17560:2014
Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Method for depth profiling of boron in silicon
22 стр.
Действует
Печатная копияПечатное издание
184.46 £ (включая НДС 20%)
Разработчик:
Зарубежные/BSI
ICS:
71.040.40 Chemical. Including analysis of gases and surface chemical analysis / Химический анализ. Включая анализ газов
Ключевые слова:
Surface chemistry, Chemical analysis and testing, Spectroscopy, Mass spectrometry, Secondary, Ions, Silicon, Determination of content, Boron, Depth