(812) 309-78-59
(495) 223-46-76
DIN 50450-2:1991-03
Testing of materials for semiconductor technology; determination of impurities in carrier gases and doping gases; determination of oxygen impurity in N<(Index)2>, Ar, He, Ne and H<(Index)2> by using a galvanic cell
Испытание материалов, применяемых в технологии изготовления полупроводников. Определение содержания примесей в газах-носителях и легирующих газах. Определение содержания кислорода в азоте, аргоне, гелие, неоне и водороде при помощи гальванического элемента
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen; Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Meßzelle
2 стр.
Действует
Печатное изданиеПечатная копияЭлектронный (pdf)
58.64 € (включая НДС 20%)
Разработчик:
Зарубежные/DIN
ICS:
71.100.20 Gases. Including compressed air and hydrogen / Газы промышленного применения. Включая сжатый воздух