(812) 309-78-59
(495) 223-46-76
DIN 51456:2013-10
Testing of materials for semiconductor technology - Surface analysis of silicon wafers by multielement determination in aqueous analysis solutions using mass spectrometry with inductively coupled plasma (ICP-MS)
Испытания материалов для полупроводниковой технологии. Анализ поверхности кремниевых пластин посредством мультиэлементного определения в водных анализируемых растворах методом масс-спектрометрии с индуктивно связанной плазмой
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Oberflächenanalyse von Silicium-Halbleiterscheiben (Wafer) durch Multielementbestimmung in wässrigen Analysenlösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)
15 стр.
Действует
Печатное изданиеПечатная копияЭлектронный (pdf)
119.41 € (включая НДС 20%)
Разработчик:
Зарубежные/DIN
ICS:
31.200 Integrated. Including electronic chips, logical and analogue microstructures / Интегральные схемы. Микроэлектроника. Включая электронные микросхемы, логические и аналоговые микроструктуры