Testing of materials for semiconductor technology - Determination of impurity content in silicon by infrared absorption - Part 1: Oxygen
Материалы полупроводниковые. Определение содержания примесей в кремнии методом инфракрасной абсорбции. Часть 1. Кислород
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung des Verunreinigungsgehaltes in Silicium mittels Infrarot-Absorption - Teil 1: Sauerstoff
10 стр.
Отменен
Печатное изданиеПечатная копияЭлектронный (pdf)
119.74 € (включая НДС 20%)
Разработчик:
Зарубежные/DIN
ICS:
29.045 Semiconducting materials / Полупроводниковые материалы