(812) 309-78-59
(495) 223-46-76
DIN 50455-1:2009-10
Testing of materials for semiconductor technology - Methods for characterizing photoresists - Part 1: Determination of coating thickness with optical methods
Материалы для полупроводниковой технологии. Методы определения характеристик фоторезистов. Часть 1. Определение толщины покрытия оптическими методами
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Messverfahren
8 стр.
Действует
Печатное изданиеПечатная копияЭлектронный (pdf)
71.26 € (включая НДС 20%)
Разработчик:
Зарубежные/DIN
ICS:
29.045 Semiconducting materials / Полупроводниковые материалы