(812) 309-78-59
(495) 223-46-76
ISO 14706:2000
Surface chemical analysis. Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Химический анализ поверхности. Определение загрязнения поверхности элементами на силиконовых пластинках методом флюоресцентной рентгеновской общеотражающей спектроскопии
28 стр.
Заменен
Не доступен
5184.41 руб. (включая НДС 20%)
Разработчик:
Зарубежные/ISO
ICS:
71.040.40 Chemical. Including analysis of gases and surface chemical analysis / Химический анализ. Включая анализ газов