(812) 309-78-59
(495) 223-46-76
ISO 17331:2004
Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флюоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра
26 стр.
Действует
Электронный (pdf)
110.88 CHF (включая НДС 20%)
Разработчик:
Зарубежные/ISO
ICS:
71.040.40 Chemical. Including analysis of gases and surface chemical analysis / Химический анализ. Включая анализ газов