(812) 309-78-59
(495) 223-46-76
ÖVE/ÖNORM EN 62374-1:2011-08
Semiconductor devices - Part 1: Time-dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers (IEC 62374-1:2010) (english version)
Действует
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Разработчик:
Зарубежные/ON
ICS:
31.080.01 Semiconductor devices in general / Полупроводниковые приборы в целом
Ключевые слова:
Halbleiterbauelement, Prüfung, Durchbruch, Isolationsschicht, Leiterbahn, Informationstechnologie, Telekommunikation, Elektronik, Elektrotechnik, Begriffe, Prüfeinrichtung, Prüfling, Teststruktur, Abbildung, Durchführung, Ablaufdiagramm, Lebensdauerschätzung, Verfahren, Feldstärke, Angabe, Einzelheit, Schätzung, Literaturhinweis