(812) 309-78-59
(495) 223-46-76
DIN 50453-1:1990-10
Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium monocrystals; gravimetric method
Материалы для полупроводниковой технологии. Определение скорости травления травильных смесей. Монокристаллы кремния, гравиметрический метод
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung der Ätzraten von Ätzmischungen; Silicium-Einkristalle; Gravimetrisches Verfahren
3 стр.
Действует
Печатное изданиеПечатная копияЭлектронный (pdf)
73.38 € (включая НДС 20%)
Разработчик:
Зарубежные/DIN
ICS:
29.045 Semiconducting materials / Полупроводниковые материалы