(812) 309-78-59
(495) 223-46-76
ISO 17331:2004/Amd.1:2010
Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of siliconwafer working reference materials and their determination by total-reflection Xray fluorescence (TXRF) spectroscopy -- Amendment 1 Analyse chimique
Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра. Изменение 1. Химический анализ
8 стр.
Действует
Электронный (pdf)
20.16 CHF (включая НДС 20%)
Разработчик:
Зарубежные/ISO
ICS:
71.040.40 Chemical. Including analysis of gases and surface chemical analysis / Химический анализ. Включая анализ газов