(812) 309-78-59
(495) 223-46-76
DIN 50451-2:1990-10
Determination of cobalt, chromium, copper, iron and nickel as impurities in hydrofluoric acid for use in semiconductor technology by plasma-induced emission spectrometry
Кислота плавиковая для полупроводниковой технологии. Определение следов кобальта, хрома, меди, железа и никеля методом эмиссионной спектрометрии в плазме
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung von Metallspuren in Flüssigkeiten; Kobalt (Co), Chrom (Cr), Kupfer (Cu), Eisen (Fe) und Nickel (Ni) in Flußsäure mittels Plasma-angeregter Emissionsspektrometrie
2 стр.
Отменен
Печатное изданиеПечатная копияЭлектронный (pdf)
73.38 € (включая НДС 20%)
Разработчик:
Зарубежные/DIN
ICS:
29.045 Semiconducting materials / Полупроводниковые материалы