Каталог стандартов

+7 (495) 223-46-76 +7 (812) 309-78-59
inform@normdocs.ru
О компании Стандарты Контакты Заказать стандарт
СтандартыIEC

IEC 62047-21:2014 ed1.0

Действует
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 21: Test method for Poisson's ratio of thin film MEMS materials — 26 стр.
ОписаниеИзмененияСсылкиВерсии

На этот документ ссылаются

DIN EN 62047-16:2015-12
Действует
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods (IEC 62047-16:2015); German version EN 62047-16:2015 — 13 стр.
BS IEC 62047-29:2017
Действует
Semiconductor devices. Micro-electromechanical devices. Electromechanical relaxation test method for freestanding conductive thin-films under room temperature — 14 стр.
BS EN 62047-16:2015
Действует
Semiconductor devices. Micro-electromechanical devices. Test methods for determining residual stresses of MEMS films. Wafer curvature and cantilever beam deflection methods — 16 стр.
ÖVE/ÖNORM EN 62047-16:2016-02
Действует
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices -- Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films – Wafer curvature and cantilever beam deflection methods (IEC 62047-16:2015) (english version)